直接盖髓术在牙髓暴露范围小且无感染的情况下效果较好，能有效保存活髓并促进牙本质桥形成。该技术适用于因龋坏或外伤导致的局限性牙髓暴露，通过严密封闭创面隔绝细菌侵入，为牙髓自我修复创造良好环境。

一、适应症与成功率影响因素：

直接盖髓术的成功率与病例选择密切相关。理想适应症为外伤或备洞过程中造成的机械性露髓，露髓点直径不超过1毫米且无自发痛史。龋源性露髓需严格评估感染程度，存在慢性炎症或化脓性病变时成功率显著降低。年轻恒牙因血运丰富、修复能力强，成功率高于成熟恒牙。术后随访显示，规范操作下5年成功率可达75%-90%，失败病例多与微渗漏或继发感染有关。

二、操作关键与材料选择：

氢氧化钙制剂和矿物三氧化物凝聚体MTA是常用盖髓材料。MTA具有优异的封闭性和生物相容性，能诱导成牙本质细胞分化，形成更均匀的牙本质桥。操作时需严格无菌，采用橡皮障隔离，高速涡轮手机喷水冷却避免热损伤。盖髓后需用玻璃离子水门汀或树脂加强型玻璃离子进行双层封闭，确保边缘密合度达到微米级。

术后应避免患牙咀嚼硬物两周，定期进行牙髓活力测试和X线检查。建议每3个月复查一次，观察牙本质桥形成情况及根尖周组织状态。日常使用含氟牙膏维护口腔卫生，配合牙线清洁邻面。若出现冷热刺激敏感持续加重或自发痛，需及时就诊评估是否需改行根管治疗。